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    • 密閉制冷加熱設(shè)備-40℃~200℃拖二配套原理

      應(yīng)用于對玻璃反應(yīng)釜、金屬反應(yīng)釜、生物反應(yīng)器進行升降溫、恒溫控制,尤其適合在反應(yīng)過程中有需熱、放熱過程控制。密閉制冷加熱設(shè)備-40℃~200℃拖二配套原理

      更新時間:2024-12-27

      廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家

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    • 制冷加熱設(shè)備-40℃~200℃拖二配套原理

      應(yīng)用于對玻璃反應(yīng)釜、金屬反應(yīng)釜、生物反應(yīng)器進行升降溫、恒溫控制,尤其適合在反應(yīng)過程中有需熱、放熱過程控制。制冷加熱設(shè)備-40℃~200℃拖二配套原理

      更新時間:2024-12-27

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    • 高低溫體機-40℃~200℃拖二配套原理

      應(yīng)用于對玻璃反應(yīng)釜、金屬反應(yīng)釜、生物反應(yīng)器進行升降溫、恒溫控制,尤其適合在反應(yīng)過程中有需熱、放熱過程控制。高低溫體機-40℃~200℃拖二配套原理

      更新時間:2024-12-27

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    • 高低溫冷卻循環(huán)器-40℃~200℃拖二

      應(yīng)用于對玻璃反應(yīng)釜、金屬反應(yīng)釜、生物反應(yīng)器進行升降溫、恒溫控制,尤其適合在反應(yīng)過程中有需熱、放熱過程控制。高低溫冷卻循環(huán)器-40℃~200℃拖二

      更新時間:2024-12-26

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    • 制冷加熱循環(huán)裝置-40℃~200℃(拖二系統(tǒng))

      應(yīng)用于對玻璃反應(yīng)釜、金屬反應(yīng)釜、生物反應(yīng)器進行升降溫、恒溫控制,尤其適合在反應(yīng)過程中有需熱、放熱過程控制。制冷加熱循環(huán)裝置-40℃~200℃(拖二系統(tǒng))

      更新時間:2024-12-26

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    • 反應(yīng)釜控溫系統(tǒng)-40℃ ~ 200℃(拖二系統(tǒng))

      應(yīng)用于對玻璃反應(yīng)釜、金屬反應(yīng)釜、生物反應(yīng)器進行升降溫、恒溫控制,尤其適合在反應(yīng)過程中有需熱、放熱過程控制。反應(yīng)釜控溫系統(tǒng)-40℃ ~ 200℃(拖二系統(tǒng))

      更新時間:2024-12-26

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