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    單流體控溫系統裝置同時解決冷熱難題

    簡要描述:單流體控溫系統裝置同時解決冷熱難題,應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制,尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制。解決化學醫藥工業用準確控溫的特殊裝置,用以滿足間歇反應器溫度控制或持續不斷的工藝進程的加熱及冷卻、恒溫系統。

    • 產品型號:SUNDI-575
    • 廠商性質:生產廠家
    • 更新時間:2025-01-11
    • 訪  問  量:784
    詳情介紹
    品牌LNEYA/無錫冠亞價格區間5萬-10萬
    產地類別國產應用領域醫療衛生,化工,生物產業,石油,航空航天

    <strong><strong><strong>實驗室高低溫循環裝置-反應釜制冷加熱機</strong></strong></strong> 

    無錫冠亞冷熱一體機 

    解決化學醫藥工業用準確控溫的特殊裝置, 

    用以滿足間歇反應器溫度控制 

    或持續不斷的工藝進程的加熱及冷卻、恒溫系統。 

    <strong><strong><strong><strong><strong><strong><strong><strong><strong><strong><strong><strong><strong><strong><strong><strong><strong><strong>沈陽谷輪制冷機一體機-tcu制冷加熱系統</strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong> 

    無錫冠亞冷熱一體機典型應用于:

    高壓反應釜冷熱源動態恒溫控制、雙層玻璃反應釜冷熱源動態恒溫控制、

    雙層反應釜冷熱源動態恒溫控制、微通道反應器冷熱源恒溫控制;

    小型恒溫控制系統、蒸飽系統控溫、材料低溫高溫老化測試、

    組合化學冷源熱源恒溫控制、半導體設備冷卻加熱、真空室制冷加熱恒溫控制。  

    <strong><strong><strong>實驗室高低溫循環裝置-反應釜制冷加熱機</strong></strong></strong><strong><strong><strong>實驗室高低溫循環裝置-反應釜制冷加熱機</strong></strong></strong><strong><strong><strong>實驗室高低溫循環裝置-反應釜制冷加熱機</strong></strong></strong>

    單流體控溫系統裝置同時解決冷熱難題

    單流體控溫系統裝置同時解決冷熱難題

      單流體控溫系統裝置可以進行制冷加熱,分為加熱系統和冷卻系統,機器不可在無水的情況下運行,必須保證吸水管口處于水中,吸水管口不可漏氣;操作開關請盡量避免連續切換;冷凍水溫度達到設定溫度時,壓縮機會自動停止運行,此屬正常現象

      溫度開關應避免設定在5℃以下,防止蒸發器結冰;為確保制冷效果,保持佳狀態,請定期清洗冷凝器、蒸發器及水過濾器。

        無錫冠亞專業提供單流體控溫系統裝置,將制冷和加熱集中于一體的溫度控制設備,傳熱的媒介是水或者油,熱傳導性好。

      實際反應過程中常伴有強烈的放熱效應,使反應溫度有所變化。針對反應釜溫度控制的特點,無錫冠亞研發采用基于PID控制的反應釜溫度控制反應釜自動控制溫度裝置,通過神經網絡的在線學習功能,增強系統的自動調節和自適應能力,使反應釜恒溫控制更穩定

    反應釜自動控制溫度裝置可根據實際生產工藝來確定加熱功率及泵浦功率,避免出現功率過大或不足的現象產生。根據客戶生產工藝制定各種特殊機型冷熱一體機、防爆型等。

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